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Récipient de lavage scellé pour machine Wash & Cure Pour imprimantes 3D:Wash & Cure 2.0 La plateforme peut résister à

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Description

La plateforme peut résister à une impression de haute intensité et est sans corrosion

Plus grande puissance de Nettoyage Plusieurs méthodes de nettoyage peuvant apporter un nettoyage de modèle plus flexible et éviter le contact avec la résine

Équipé d'une source de lumière matrix Anycubic LighTurbo améliorée qui projette la lumière UV à la fois parallèlement et perpendiculairement à l'écran LCD

et en même temps

500 mm/s (Max

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